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基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響
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基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響
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發(fā)表于: 2007-08-09
基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響
描述:基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響
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基底對(duì)光學(xué)薄膜弱吸收測(cè)量的影響.rar
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flyinlove79
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威望是設(shè)的有點(diǎn)高啊 多謝 ..
2007-08-09
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lilylyl
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發(fā)表于: 2007-08-09
haODONGXI!!
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lilylyl
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發(fā)表于: 2007-08-09
主要鍍膜材料及其性能和用途
j*nZ
名稱 折射率 透光范圍 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用
uFOxb}a9v
三氧化二鋁 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 電子槍 增透膜、多層膜
:TJv<NZi'
氟化鈰 1.63/500nm 300~5000 1429 鉬,鉭,電子槍 增透膜、多層膜
0?
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