中國光學(xué)學(xué)會光學(xué)薄膜專業(yè)委員會研究決定,2007年10月19-21日在上海舉行《2007中國光學(xué)薄膜與技術(shù)學(xué)術(shù)交流大會》。本次大會將對近年來國內(nèi)及周邊國家與地區(qū)的光學(xué)薄膜研究的最新進展,特別是光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)的發(fā)展進行學(xué)術(shù)交流與研討。同時作為全國光學(xué)薄膜界的盛會,本次會議期間將舉行會員代表大會,選舉產(chǎn)生新一屆的專業(yè)委員會。 &YXJ{<s
本次大會的學(xué)術(shù)交流與產(chǎn)業(yè)研討將集中在光學(xué)薄膜的新技術(shù)新應(yīng)用與新發(fā)展方面,注意突出光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)近年來在國內(nèi)的發(fā)展對中國光學(xué)薄膜技術(shù)的推進作用,以及研討中國未來光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢。會議的基本議題有: .J75bX5
光學(xué)薄膜的新設(shè)計與新器件 syR"p,3EC
光學(xué)薄膜新的制備技術(shù)(包括沉積技術(shù),監(jiān)控技術(shù)等) P~trxp=k
光學(xué)薄膜的檢測技術(shù) DEZww9T2Qs
光學(xué)薄膜的新應(yīng)用 =IC.FT}
極端環(huán)境或要求的光學(xué)薄膜 S[F06.(1
有機/無機型光學(xué)薄膜 ~(V\.hq
薄膜型光子晶體與技術(shù) L~6%Fi&n4
國內(nèi)光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢