Zemax光學設計從入門到精通	京東雙十一活動紅包購物券領取	Zemax光學設計實踐基礎(陳家璧)	ZEMAX光學系統(tǒng)設計實戰(zhàn)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨家供應商	光學設計與光學元件	CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape	計算光學帶來的成像革命

發(fā)帖回復

6871閱讀
6回復

[求助]關于TracePro的兩個問題 [復制鏈接]

上一主題下一主題

離線asm

榮譽會員

發(fā)帖: 379

光幣: 358

光券: 0

只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2007-12-18

關鍵詞： TracePro 取樣追跡

1.關于重點取樣。

研究過mannual 里面對于重點取樣的描述，應該是個有效的提高追跡效率的方法。但是自己的經驗是對光源設置是有效的，但是對散射面（透射，反射）不僅無效，在重點取樣方向有效光線數(shù)反而減少。
我試過改變散射面的法向與重點取樣面的組合，還有確認是"Towards"而不是離開。結果還是一樣。有沒有達人有這方面經驗？


	關閉您還沒有登錄，快捷通道只有在登錄后才能使用。立即登錄還沒有帳號？趕緊注冊一個

帖子

[求助]關于TracePro的兩個問題 [復制鏈接]