TracePro主要有3個版本，介紹如下：
XX @ZQcN g-A-kqo9 1、LC
_w{Qtj~s| 1. 分析模型的數(shù)量有所限制，模型物件上限為35個，
光源物件為10個。
\RiP
2. 可以考慮反射與折射之光學(xué)特性。
ixFi{_ @F eTz[ 2、Standard
eDMO]5}Ht 1. 可自由定義模型物件與光源物件的外型。
6<]l W 2. 可以考慮反射、透射、漸變折射、雙向散射、體散射、光學(xué)薄模及偏振材料等光學(xué)特性。
x A r\gu 3. 可完整定義光源特性，包含格點光源、表面光源、黑體輻射及檔案光源。
-~ 0^P, yQ 4. 可使用重點採樣(importance sampling)技術(shù)對隨機(jī)光線標(biāo)定出有效的光線。
S!UaH>Rh 5. 使用Irradiance/Illuminance Map、Candela Plot、Polarization Map、Incident Ray Tables與Incident Ray Tables等方式進(jìn)行後處理的視覺化輸出。
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