MEMS的課程論文，寫得比較認(rèn)真，希望對(duì)大家有用^_^  傳上來(lái)掙點(diǎn)分…… cN]e{|  
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本文主要對(duì)具有代表性的三維結(jié)構(gòu)——針形陣列的多種制造工藝作出介紹。包括： wO>P<KBU  
1、移動(dòng)掩模深X射線光刻（Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL）技術(shù) p bR
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2、改變X射線入射方向的二次曝光方法 e#R'_}\yj  
3、水平型正交橫截面技術(shù)（Plane-pattern to cross section transfer，PCT） 5:"zs  
4、X射線灰色掩模技術(shù) -~PiPYX  
并對(duì)最新的制造方法：X射線灰色掩模（X-ray gray mask）光刻技術(shù)做詳細(xì)介紹。

真是太好了 正是我想要的

感謝囉~學(xué)習(xí)研究一下~