光行天下>光學(xué)薄膜設(shè)計(jì),工藝與設(shè)備>離子源問題的討論，歡迎達(dá)人進(jìn)入

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離線lsnanjing

實(shí)習(xí)生

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2008-08-12

眾所周知 ,在薄膜沉積的同時(shí) ,輔助以具有一定能量的定向離子束的轟擊 ,可以大大地改善薄膜的性能。
它不僅可以顯著增強(qiáng)膜基與膜層間的結(jié)合。而且可以起到增加存儲(chǔ)密度 ,消除柱狀晶 ,提高膜的致密度的作用。
我在這里想要和大家討論的是：離子源可以改變膜層的折射率，那么可以不同的能量可以改變它的厚度嗎？？？？

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離線syw1984

技術(shù)員

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2008-08-23

這好像不行啊，要厚就是整體的都厚了

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離線ken_jinyan1

技術(shù)員

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只看該作者 2樓發(fā)表于: 2013-06-07

薄膜的折射率變了，再用TFC設(shè)計(jì)不就不準(zhǔn)了嗎

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離線yangyangyang

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 3樓發(fā)表于: 2014-06-25

不可以改變厚度

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離線gaofei5588

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 4樓發(fā)表于: 2017-11-24

離子源和晶控或光控是單獨(dú)體，改變離子源beam，會(huì)改變折射率，厚度肯定會(huì)發(fā)生變化。

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