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NanoGram公司與東京電子有限公司簽署薄膜光電聯(lián)合開發(fā)協(xié)議

發(fā)布：ploiet 2008-12-08 15:42 閱讀：3184

12月8日消息，光學、電子和能源應用領域高級產(chǎn)品與解決方案的領先開發(fā)商和制造商NanoGram公司今日宣布，已與東京電子有限公司（Tokyo Electron, Ltd.）簽署聯(lián)合開發(fā)協(xié)議，擴大兩者之間的合作關系，使后者從戰(zhàn)略投資人發(fā)展到技術和市場開發(fā)合作伙伴。

該聯(lián)合開發(fā)協(xié)議將專注于開發(fā)先進的薄膜沉積工具，該工具采用NanoGram已獲專利的激光反應沉積(LRD™)硅處理技術。該平臺將以快速發(fā)展的薄膜光電市場為目標，Prometheus Institute預計該市場到2012年將增長到整個光電市場的40%。NanoGram的LRD工藝具有明顯的速度優(yōu)勢，沉積非晶和微晶硅的速度比傳統(tǒng)的CVD工藝明顯更快。此項開發(fā)工作還有望與NanoGram突破性的低成本多晶SilFoil™ PV模塊業(yè)務形成互補。

NanoGram總裁兼首席執(zhí)行官Kieran Drain博士表示：“此次加強與TEL的合作關系對我們非常重要，我們對此感到振奮，因為它檢驗了TEL對NanoGram所做的初始投資以及我們的技術潛力。這一擴大的關系將有助于NanoGram加速該項技術的開發(fā)，以滿足提高硅沉積工具速度的需求。”TEL Venture Capital總裁Mike Yamaguchi表示：“能夠?qū)anoGram進行投資，我們感到非常高興。現(xiàn)在，這種聯(lián)合技術開發(fā)又進一步建立了我們的合作關系，并在重大目標市場中創(chuàng)造了新的機會。”此次宣布是在NanoGram的SilFoil多晶光電產(chǎn)品獲得美國能源部能量效率與可再生能源辦公室授予的能源創(chuàng)新獎后做出的。公司計劃在2009年年底之前提供5兆瓦的能量。

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