光行天下>光學(xué)薄膜設(shè)計,工藝與設(shè)備>關(guān)于沉積速率調(diào)整的一個問題

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[求助]關(guān)于沉積速率調(diào)整的一個問題 [復(fù)制鏈接]

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離線oudexu

實習(xí)生

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2009-01-06

請教大家一個問題
假如要降低鍍膜的沉積速度，把靶基距調(diào)大或減小靶的濺射率，它們的效果一樣嗎？比如鍍出來的膜的折射率，消光系數(shù)，薄膜的晶體結(jié)構(gòu)等有什么差別嗎？
機器：離子濺射

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離線timberwolf

實習(xí)生

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2009-03-25

當(dāng)然不一樣。膜層的附著力、應(yīng)力和均勻性都效果不同。就看你的要求了。

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離線renlgj

技術(shù)員

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只看該作者 2樓發(fā)表于: 2024-08-22

跟著學(xué)習(xí)了

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