一、OptiLayer 模塊 W'M*nR|xo  
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OptiLayer 模塊的功能同大多數(shù)軟件差不多，不同處在于：1.能解決其它軟件不能再優(yōu)化的問題；2.運算速度快，比同時期的同類軟件快數(shù)百倍。其具體原因可參考針式算法專題。 5=ryDrx  
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二、OptiChar模塊 gg2(5FPP  
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OptiChar模塊主要通過鍍膜材料實測光學特性參數(shù)(某波段范圍內的反射率和透過率曲線)給出一評估曲線，再通過在某一基底下，考察給定薄膜理論中一些因素(厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)時，擬合出在當前考察因素下，最接近鍍膜材料實測出的光譜特性評估曲線的層材料光譜特性曲線，進而給出此時的層材料模型(包含層材料的厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)。擬合得越好則給出的層材料模型越接近當前鍍膜條件下的實際情況。 61U09s%\0  
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且在考察和不考察某一因素時，如果擬合狀況無多大變化，則說明當前考察的光學特性(反射或透過)對該因素不敏感。即該因素對當前考察的光學特性無多大影響。因而再利用該層材料作設計且為當前考察的光學特性時，可以忽略該因素的影響而不去考慮它。 nU7[c| =  
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如上表即薄膜理論中最重要的一些因素：不均一性、消光系數(shù)和表面粗糙度對某一層材料實際測得的光譜特性(反射和透過)的影響程度。由上表我們可知在利用該層材料模型做設計時，若設計只考慮反射時，則該三因素中只需考慮不均一性；同理若設計只考慮透過時，則該三因素中需考慮不均一性和消光系數(shù)。 x[e<} 8'$(  
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三、OptiRE模塊 'm$L Ij?@  
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    OptiRE這一模塊為工程反演，其主要目的為向生產過程提供一個回饋。
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    OptiRE中采用一差異函數(shù)比較設計模型光譜特性和生產后薄膜實驗測得的光譜特性， OptiRE的工程反演運算法則是基于使該差異函數(shù)值最小。（OptiLay模塊的優(yōu)化設計則是優(yōu)化比較理論和目標光譜特性的評價函數(shù)值） Jln:`!#fDf  
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    為提高生產質量，我們需要消除或者使誤差最小。在OptiRE中我們考察兩類生產誤差：系統(tǒng)誤差和隨機誤差。 |2A:eI8 ^  
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    系統(tǒng)誤差是那些在下一次沉積或加工時還會發(fā)生的誤差。系統(tǒng)誤差通過工程反演知道并能通過采用具有更精確刻度的監(jiān)測裝置；而由工程反演得出的隨機誤差信息能被用來研究生產誤差產生的原因。 ]7A'7p$Y  
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    OptiRE中還考察折射率修正、系統(tǒng)不均一性等生產過程中產生的一些實際問題。注意：應優(yōu)先考察系統(tǒng)誤差。 ;!Fn1|)  
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四、小結 =Dj#gV  

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   OptiLayer:考察由設計到目標的評價函數(shù)，通過優(yōu)化達到設計目標，并進行預生產誤差分析； GTHt'[t@;  
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   OptiChar:考察在各種薄膜理論中的重要因素下的層材料光譜特性和其實測光譜特性的差異函數(shù)， 得出較好的切合實際的層材料模型并得出各因素對當前設計的影響，指出用該層材料設計時考察需哪些因素。 6ik$B  
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   OptiRE:  考察設計模型光譜特性和生產后實驗測得模型光譜特性，通過工程反演得出生產中產生的一些誤差，將其反饋到生產過程中去以指導生產。 Zv{'MIv&v  
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   通過一動態(tài)連接庫功能可將以上幾個模塊聯(lián)系起來，從而實現(xiàn)薄膜設計到生產等一系列過程中的設計、修改和實時監(jiān)測等功能。 ~wdGd+ez  
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一般設計流程： {oL>1h,%3?  
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   1.通過光譜光度計或橢圓偏振儀測出現(xiàn)有層材料光譜特性，將測得數(shù)據(jù)導入OptiChar中分析給出較好的切合實際的層材料模型并指出用該層材料設計時考察需哪些因素； {M)Nnst"~  
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   2.將層材料模型導入OptiLayer并通過OptiLayer完成薄膜設計，并對設計模型進行預生產誤差分析、清除薄層等處理使其更貼切實際和便于生產； #w=~lq)9  
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   3.按設計加工完薄膜后再對其進行光譜特性測量，將測量的光譜特性導入OptiRE中，通過  OptiRE將其與設計模型光譜特性比較，給出反饋信息用于指導和監(jiān)控生產過程。

來學習的！！

想要，但沒前2啊