薄膜厚度和消光系數(shù)的透射光譜測量方法摘要：本文提出薄膜厚度和消光系數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)曲線測量法，論述了方法的測量原理和測量程序。該法的膜厚的測量范圍為~80nm到2000nm；膜厚的測量誤差大約為13nm。 C`\9c ej
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關(guān)鍵詞：薄膜、厚度、消光 z%(Fo2)^
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自潔凈玻璃的自潔凈性能、低幅射玻璃的低幅射性能都與其膜層的厚度、折射率和消光系數(shù)有著密切的關(guān)系[1]。近代微電子學(xué)裝置，如成像傳感器、太陽能電池、薄膜器件等都需要這些參數(shù)[2] 。這些參數(shù)的數(shù)據(jù)是薄膜材料、薄膜器件設(shè)計的必不可少的基礎(chǔ)性數(shù)據(jù)。 /@ y;iJk;
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通常都是單獨測量這些參數(shù)，薄膜厚度用原子力顯微鏡、石英震蕩器、臺階儀、橢偏儀、干涉法來測量。薄膜折射率的測量就比較麻煩，因為它是波長的函數(shù)，它可以用基于干涉、反射原理的方法測量。從薄膜的吸收譜就可測量其消光系數(shù)。顯然，取得這些數(shù)據(jù)是很麻煩、很費時、成本也很高，特別是對于納米級薄膜。 HXQ e\r
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2000年，美國Princeton等大學(xué)提出[2] ，從物理角度建立透射光譜模型，調(diào)整模型中的未知的參數(shù)，即薄膜厚度、折射率、消光系數(shù)，使透射光譜的理論曲線同實驗曲線重合，這就同時取得薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等數(shù)據(jù)。他們用這種方法同時測量了“玻璃-薄膜” 系統(tǒng)的薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等數(shù)據(jù)。顯然，這是取得這些數(shù)據(jù)的簡便、快速、低成本的方法，是這領(lǐng)域的一個發(fā)展趨勢。 bGbqfO`
