據(jù)澳大利亞莫納什大學(xué)網(wǎng)站報(bào)道，澳大利亞研究人員正在研制世界最強(qiáng)大的納米設(shè)備之一——電子束曝光系統(tǒng)(EBL)。該系統(tǒng)可標(biāo)記納米級(jí)的物體，還可在比人發(fā)直徑小1萬倍的粒子上進(jìn)行書寫或者蝕刻。 sQ,xTWdj  
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電子束曝光技術(shù)可直接刻畫精細(xì)的圖案，是實(shí)驗(yàn)室制作微小納米電子元件的最佳選擇。這款耗資數(shù)百萬美元的曝光系統(tǒng)將在澳大利亞亮相，并有能力以很高的速度和 定位精度制出超高分辨率的納米圖形。該系統(tǒng)將被放置在即將完工的墨爾本納米制造中心(MCN)內(nèi)，并將于明年3月正式揭幕。 ('U