LED芯片的制造
工藝流程如下,供相關專業(yè)人士參考學習。
.?D7dyU l1 c>,'Y)8 外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→
鍍膜→剝離→退火→P極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。
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外延生長的基本原理是:在一塊加熱至適當溫度的襯底基片(主要有藍寶石和、SiC、Si)上,氣態(tài)物質InGaAlP有控制的輸送到襯底表面,生長出特定單晶薄膜。目前LED外延片生長技術主要采用有機金屬化學氣相沉積方法。
61,;Uc\T dV*]f$wQ MOCVD介紹:金屬有機物化學氣相淀積(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition,簡稱 MOCVD),1968年由美國洛克威爾公司提出來的一項制備化合物
半導體單品薄膜的新技術。該設備集精密機械、半導體材料、真空電子、流體力學、
光學、化學、計算機多學科為一體,是一種自動化程度高、價格昂貴、技術集成度高的尖端光電子專用設備,主要用于GaN(氮化鎵)系半導體材料的外延生長和藍色、綠色或紫外發(fā)光
二極管芯片的制造,也是光電子行業(yè)最有發(fā)展前途的專用設備之一。
#9B)Xx!g &VhroHO 其實外延片的生產制作過程是非常復雜的,在展完外延片后,下一步就開始對LED外延片做電極(P極,N極),接著就開始用
激光機切割LED外延片(以前切割LED外延片主要用鉆石刀),制造成芯片后,在晶圓上的不同位置抽取九個點做
參數(shù)測試。
rDD:7*z j?A/# 1.主要對電壓、
波長、亮度進行測試,能符合正常出貨標準參數(shù)的晶圓片再繼續(xù)做下一步的操作,如果這九點測試不符合相關要求的晶圓片,就放在一邊另外處理。
ED2a}Tt>Z ",p;Sd 2.晶圓切割成芯片后,100%的目檢(VI/VC),操作者要使用放大30倍數(shù)的
顯微鏡下進行目測。
|+"<wEKI bo,_&4? 3.接著使用全自動分類機根據(jù)不同的電壓,波長,亮度的預測參數(shù)對芯片進行全自動化挑選、測試和分類。
0m7Y>0wC6T QMA%$ 4.最后對LED芯片進行檢查(VC)和貼標簽。芯片區(qū)域要在藍膜的中心,藍膜上最多有5000粒芯片,但必須保證每張藍膜上芯片的數(shù)量不得少于1000粒,芯片類型、批號、數(shù)量和光電測量統(tǒng)計數(shù)據(jù)記錄在標簽上,附在蠟光紙的背面。藍膜上的芯片將做最后的目檢測試與第一次目檢標準相同,確保芯片排列整齊和質量合格。這樣就制成LED芯片(目前市場上統(tǒng)稱方片)。
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