《現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)》第一篇主要介紹光學(xué)薄膜特征的理論計(jì)算、光學(xué)多層膜的設(shè)計(jì)理論和技術(shù)，由唐晉發(fā)教授編寫。第二篇主人介紹光一膜的制造技術(shù)，包括以物理氣相淀積技術(shù)為代表的成膜技術(shù)，涵蓋真空設(shè)備、薄膜材料、制備參數(shù)控制技術(shù)、薄膜厚度監(jiān)控技術(shù)、膜厚均勻性以及制備參數(shù)對(duì)薄膜微觀結(jié)構(gòu)影響等。第三篇主要介紹薄膜光學(xué)特性與光學(xué)常數(shù)的檢測(cè)技術(shù)、薄膜機(jī)械性能的評(píng)價(jià)技術(shù)等。由于光學(xué)薄膜技術(shù)又是一門交叉性很強(qiáng)的學(xué)科，涉及到光電技術(shù)、計(jì)算機(jī)、真空技術(shù)、材料科學(xué)、自動(dòng)控制技術(shù)等領(lǐng)域。 *TXq/ 3g  
光學(xué)薄膜是一門綜合性非常強(qiáng)的工程技術(shù)科學(xué)。它的理論基礎(chǔ)是電磁場(chǎng)理論和麥克斯韋方程，涉及光在傳播過程中，通過分層介質(zhì)的反射、透射和偏振特性等。 7CIje=u.q  
為了滿足部分來(lái)自不同領(lǐng)域的光學(xué)薄膜工作者學(xué)習(xí)《現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)》的需要，增加了一個(gè)附錄，主要介紹幾個(gè)數(shù)學(xué)物理基礎(chǔ)理論。 1OGlD+f  

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