《
真空鍍膜技術》共分10章,
系統(tǒng)地闡述了真空鍍膜技術的基本慨念和基礎理論、各種
薄膜制備技術、設備及工藝、真空卷繞鍍膜技術、ITO導電
玻璃真空鍍膜工藝,尤其重點介紹了一些近年來新出現的鍍膜方法與技術,如反應磁控濺射鍍膜技術、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術等;還詳細介紹了薄膜沉積及膜厚的監(jiān)控與測量以及表面與薄膜分析檢測技術等方面的內容。
2.>WR~\ 《真空鍍膜技術》具有很強的實用性,適合于真空鍍膜行業(yè)、薄膜與表面應用、
材料工程、應用物理以及與真空鍍膜技術有關的行業(yè)從事研究、設計、設備生產操作與維護的技術人員,也適用與真空鍍膜技術相關的實驗研究人員和學生,還可用作大專院校相關專業(yè)師生的教材及參考書。
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6Bop8B UBm L:Qv 1 薄膜與表面技術基礎理論
FkH HTO 1.1 概述
'<JNS8h 1.2 固體表面介紹
Biva{'[m 1.2.1 固體材料
`Q@w*ta) 1.2.2 固體表面與界面的基本概念
4Ucs9w3[ 1.2.3 固體表面與界面的區(qū)別
hp$/O4fD 1.3 表面晶體學
WEnI[JGe 1.3.1 金屬薄膜的晶體
結構 \|gE=5!Am= 1.3.2 理想的表面結構
BWWO=N
1.3.3 表面與體內的差異
>]!8f?, 1.3.4 青潔表面結構
,dR<O.{0 1.3.5 實際表面結構
.S{FEV 1.4 表面特征(熱)力學
o
_G,Ph!7 1.4.1 表面力
S <RbC 1.4.2 表面張力與表面自由能
2&,jO+BqE@ 1.4.3 表面擴散
2I@d=T{K 1.5 表面
電子學
VK]cZ%) 1.5.1 金屬薄膜中的電遷移現象
/TndB7l"3 1.5.2 曾強薄膜抗電遷移能力的措施
/FthT 1.6 界面與薄膜附著
^c-8~r|y, 1.6.1 界面層
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