1. 背景知識(shí) 4<-Kd~uL  
光學(xué)薄膜泛指在器件表面用物理化學(xué)等方法沉積，利用光的干涉現(xiàn)象以實(shí)現(xiàn)增透、高反射、濾光、分光等光學(xué)現(xiàn)象。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學(xué)薄膜可提高太陽(yáng)能電池的效率和穩(wěn)定性。 geR :FO;\  
2. 設(shè)備能力 K+`GVmD  
OTFC-900型自動(dòng)高精度光學(xué)薄膜鍍膜機(jī)是一種通用型的高檔光學(xué)鍍膜設(shè)備，適用從于從紫外到紅外各種光學(xué)玻璃和晶體上鍍制減反射膜,高反射膜,分光膜和濾光膜及其它多層光學(xué)薄膜。 :C_/K(Rkl  
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1） 真空室尺寸：直徑900毫米，高度約1300毫米 <2
)AbI+3  
2） 排氣性能 <'4Wne.z!  
粗抽真空：從大氣壓到50Pa真空，8分鐘以內(nèi) r)|~Rs!y,  
極限真空：低于5.0E-5Pa　 I:jIChT  
恢復(fù)真空：15分鐘之內(nèi)達(dá)到8.0E-4Pa c6[m'cy  
漏氣速率：低于5.0E-3Pa・L/sec XN<!.RCw  
3） 基板加熱特性 b23A&1X  
最大設(shè)定溫度: 350℃  NAD^1
0  
加熱40分鐘以內(nèi)，能到達(dá)300℃ BsFO]F5mmX  
溫度均勻性: 300℃±10℃(加熱40分鐘后) %f'pAc|#  
4） 電子槍/電源(JEOL制) B!Wp=9)G  
電子槍（BS-60050EBS）： tKt}]KHV  
(10kW，270°偏轉(zhuǎn)) ytY\&m  
電壓 -4～-10kV(連續(xù)可變) ^^v3iCT  
5） 坩堝 L"'=[O~  
環(huán)形坩堝：φ302×φ228×H15mm環(huán)狀、材質(zhì)Cu BHY-fb@R]H  
15點(diǎn)坩堝：外徑尺寸φ35×H17mm、材質(zhì)Cu :=hL}(~]  
6） 離子源 fDs