1. 背景知識 0 }q/VH57  
光學薄膜泛指在器件表面用物理化學等方法沉積，利用光的干涉現(xiàn)象以實現(xiàn)增透、高反射、濾光、分光等光學現(xiàn)象。例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學薄膜可提高太陽能電池的效率和穩(wěn)定性。 Bi]%bl>%  
2. 設備能力 0@2%pIq\  
OTFC-900型自動高精度光學薄膜鍍膜機是一種通用型的高檔光學鍍膜設備，適用從于從紫外到紅外各種光學玻璃和晶體上鍍制減反射膜,高反射膜,分光膜和濾光膜及其它多層光學薄膜。 % nR:Rc!  
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1） 真空室尺寸：直徑900毫米，高度約1300毫米 'O CVUF,  
2） 排氣性能 6_XTeu  
粗抽真空：從大氣壓到50Pa真空，8分鐘以內 D+RG,8Ht  
極限真空：低于5.0E-5Pa　 >[[< 5$,T  
恢復真空：15分鐘之內達到8.0E-4Pa +:D0tYk2B  
漏氣速率：低于5.0E-3Pa・L/sec c#_%|gg  
3） 基板加熱特性 |(Sqd;#v  
最大設定溫度: 350℃ Mv_4*xVc  
加熱40分鐘以內，能到達300℃ 8YCtU9D  
溫度均勻性: 300℃±10℃(加熱40分鐘后) qk
+:p]2  
4） 電子槍/電源(JEOL制) cdk;HK_Ve.  
電子槍（BS-60050EBS）： UJO+7h'  
(10kW，270°偏轉) V /|@  
電壓 -4～-10kV(連續(xù)可變) zg]9~i8  
5） 坩堝 oo`mVRVf  
環(huán)形坩堝：φ302×φ228×H15mm環(huán)狀、材質Cu ).LJY<A  
15點坩堝：外徑尺寸φ35×H17mm、材質Cu Xf
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6） 離子源 =r`>tWs
  
離子流密度分布均勻；利用離子源進行基片清潔和輔助鍍膜時，基片表面質量無損傷 07n=H~yU  
a) 射頻離子源：（Optorun制：OIS-Four,10cm） g8^ 卓资县| 泰兴市| 合水县| 竹山县| 龙门县| 盱眙县| 黄大仙区| 云南省| 宝山区| 霍州市| 大英县| 永修县| 沧州市| 宁远县| 乐至县| 桃江县| 定州市| 深水埗区| 班戈县| 津南区| 洛南县| 舟山市| 彭阳县| 新郑市| 汽车| 宁安市| 贡觉县| 壶关县| 松溪县| 阿城市| 四子王旗| 玛曲县| 密山市| 射洪县| 九江县| 拜泉县| 陈巴尔虎旗| 门头沟区| 隆尧县| 六盘水市| 临西县|