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等離子體源(Plasma Sources)原理
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等離子體源(Plasma Sources)原理
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平行平板等離子體源(電容耦合)
電容耦合等離子體源采用直徑300mm的兩圓型平行平板作為上下電極,平板間距離從30mm到100mm可調(diào)。射頻
電源
頻率為13.56 MHz,通過配網(wǎng)耦合到上下極板上。樣品采用電阻式加熱,最高加熱溫度600℃,均勻性較好;為了獲得更均勻的氣場,上極板采用淋浴頭型多孔
結(jié)構(gòu)
。
<IMG alt="" src="http://1883.img.pp.sohu.com.cn/images/2010/11/25/14/1/6_12d38afd334g214.jpg" onload=imgresize(this); border=0 0px? auto="auto" 10px; ZOOM: 1; TEXT-ALIGN: center?>
<DIV 0px? auto="auto" 10px; TEXT-ALIGN: center?>
微波等離子體
微波等離子體的放電
原理
與微波離子源基本相同,也同樣可以利用微波
電子
回旋共振(ECR)技術(shù)來維持對反應氣體的輝光放電,對控制
薄膜
的成分和
鍍膜
內(nèi)應力的較為靈活,它具有運行氣壓低(10
-1
Pa量級)、等離子體密度高(10
11
~10
12
cm
-3
)、電離度高(約10%)、反應粒子活性高、離子能量低、無高能粒子損傷、且無內(nèi)電極放電、沒有污染、磁場約束、減少等離子體與反應室壁的相互作用、薄膜雜質(zhì)含量少等許多其它
工藝
無法相比的優(yōu)點,因而具有低溫下制備均勻、致密、光滑、純凈的高品質(zhì)功能性薄膜的巨大潛力。
詳情請參考
http://opturn.blog.sohu.com/entry/8463781/
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發(fā)表于: 2013-01-03
好東西,謝謝分享!!!
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發(fā)表于: 2013-08-03
d得好好學學!!!!
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發(fā)表于: 2013-08-13
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