蒸發(fā)鍍膜過(guò)程中，真空度一般都在10-2Pa左右，真空度過(guò)低可能會(huì)影響蒸發(fā)出來(lái)分子能量，降低膜層品質(zhì)，但是真空度升高到10-3Pa，10-4Pa左右時(shí)對(duì)蒸發(fā)鍍膜有什么影響？

質(zhì)量應(yīng)該會(huì)好，但是效率會(huì)降低。要綜合考慮

如果機(jī)器抽速好，還是真空度高一些好！抽速不好，為了省時(shí)間，湊合著在10-2Pa鍍膜。同意二樓觀點(diǎn)！

真空度高可以減少膜料粒子與真空室中殘留氣體分子的碰撞，保持粒子的能量，促進(jìn)膜層的致密性。

真空度的高低與膜料等都有關(guān)系，過(guò)高的真空度不一定就是最好的。

我有兩個(gè)問(wèn)題請(qǐng)教下！ sZPA(N?  
1、在鍍膜過(guò)程中發(fā)現(xiàn)充O2量過(guò)少，可以通過(guò)修改充O2真空度修改充O2量嗎？ &Ukh  
2、充O2時(shí)的真空度是否會(huì)影響薄膜的n值和d值？ （例如真空度越高，膜層越致密，膜層厚度越薄）

我公司目前有鍍膜工程師的職位，主要是手機(jī)玻璃，手機(jī)鏡片行業(yè)的，有意向的請(qǐng)聯(lián)系15989594260   QQ：290935256

充氧氣在10-2鍍膜，真空越高吸收越小，波寬變窄，吸收大波寬變寬，高手指點(diǎn)，小的實(shí)踐是這種現(xiàn)象。

真空度高的話有利于提高材料的折射率，。但蒸鍍過(guò)程中真空過(guò)高或者過(guò)低會(huì)導(dǎo)致材料的吸收或者散射系數(shù)。所以需要我們選擇合適的工藝。

呵呵，有道理啊