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在反應濺射鋁的過程中的打弧問題
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在反應濺射鋁的過程中的打弧問題
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余登峰
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樓主
發(fā)表于: 2011-11-27
在反應濺射鋁的過程中的打弧問題,看到的共享一下。
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zmfu77
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1樓
發(fā)表于: 2011-12-16
如果采用的是直流磁控濺射設備,應該有以下幾個原因:
~wQ WWRk
1、靶的兩端污染嚴重,導電性能差,積累大量電荷,造成對真空腔體放電打火。
YfYL?G
2、靶表面污染或有氧化層
p>hCh5
3、靶的兩端有清微漏水、漏氣的情況
^SelqX
4、電源滅弧性能差
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guangbao
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發(fā)表于: 2014-03-09
看看隱藏了什么?
- G2M;]Cn
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caiqiwen
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發(fā)表于: 2014-11-06
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4樓
發(fā)表于: 2020-08-20
隱藏的是什么
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嚶?lián)糸L空
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5樓
發(fā)表于: 2024-05-31
反應濺射鍍鋁是加氧鍍氧化鋁嗎
xRZT
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xiezhizhi
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發(fā)表于: 2024-06-01
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WK5bt2x
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西點
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7樓
發(fā)表于: 05-21
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