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[下載]負偏壓對磁控濺射Ti膜沉積速率和表面形貌的影響 [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2011-12-18

關(guān)鍵詞：磁控濺射沉積薄膜

負偏壓對磁控濺射Ti膜沉積速率和表面形貌的影響摘要：采用直流磁控濺射加負偏壓的方法制備了 Ti 膜 ,研究了不同偏壓條件對 Ti膜沉積速率、密度、生長方式及表面形貌的影響。隨著偏壓逐漸增大 ,Ti 膜沉積速率分三個階段變化:0～ - 40 V 之間沉積速率基本不變; - 40～ - 80 V 之間沉積速率迅速降低;超過 - 80 V 后沉積速率隨偏壓的下降速度又放緩。Ti 膜密度


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