《國際信息工程先進技術(shù)譯叢:微
光學和
納米光學
制造技術(shù)》詳細介紹了微光學和納米光學元件成功的、最新的制造工藝,重點強調(diào)了關(guān)鍵性的專業(yè)技巧,提供了最新的技術(shù)信息,內(nèi)容包括面浮雕衍射光學元件、微光學等離子體刻蝕加工技術(shù)、使用相位光柵掩模板的
模擬光刻術(shù)、光學器件的電子束納米光刻制造技術(shù)、納米壓印光刻技術(shù)和器件應(yīng)用、平面光子晶體的設(shè)計和制造、三維(3D)光子晶體的制造——鎢成型法。
s.(.OXD& 《國際信息工程先進技術(shù)譯叢:微光學和納米光學制造技術(shù)》參編作者都是微納米光學制造技術(shù)領(lǐng)域的專家,代表了當今微光學加工的領(lǐng)先水平。可供光電子領(lǐng)域從事光學儀器設(shè)計、
光學設(shè)計和光機結(jié)構(gòu)設(shè)計(尤其是從事光學成像理論、微納米光學研究)的工程師使用,也可以作為大專院校相關(guān)專業(yè)本科生、研究生和教師的參考書。
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6I[*p0j5 =u0=)\0@r 本帖為實體書購買信息推薦,暫無電子文檔!
dC<%D'L* _Q:ot'(~0- 目錄
-cUW,>E 譯者序
mq{Z
Q' 前言
s=$xnc}mf 第1章面浮雕衍射光學元件
E[hSL#0 1.1制造方法
fe\'N4 1.2周期和
波長比
I
N@ ~~ 1.3光柵形狀
\,v^v]| 1.4深度
優(yōu)化 QeY+imM 1.5錯位失對準
52^3N>X4X 1.6邊緣圓形化
^uX"04>; 1.7幾何形狀偏離引起形狀雙折射光柵相位響應(yīng)的變化
K*^'tltJ 1.8表面紋理結(jié)構(gòu)
Qc33CA 1.9熔凝石英表面的紋理結(jié)構(gòu)
W'Gh:73'} 1.10太陽
電池的表面紋理結(jié)構(gòu)
@3eMvbI 1.11 8階熔凝石英DOE樣片的制造方法
W}F~vx. 1.12成形金屬基準層的制造工藝
[6@bsXiw 1.13轉(zhuǎn)印成形和第一層掩模板的刻蝕
eDo4>k"5 1.14轉(zhuǎn)印成形和第二層掩模板的刻蝕
*K>2B99TXu 1.15轉(zhuǎn)印成形和第三層掩模板的刻蝕
F_u?.6e] 致謝
bSM|" 參考文獻
W)`>'X` 第2章微光學等離子體刻蝕加工技術(shù)
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