非成像 光學(xué)的邊緣光線原理說明，從光源到目標(biāo)邊緣的邊緣光線映射能夠應(yīng)用到非成像器件的設(shè)計(jì)。然而，在大多數(shù)的非成像反射器，包括復(fù)合拋物面聚焦器（CPC），至少部分輻射光經(jīng)過多次反射，一些光線甚至出現(xiàn)被多次反射，最后的檢測(cè)揭示光源的一些邊緣光線沒有映射到目標(biāo)邊緣上，盡管這個(gè)CPC在二維空間是理想的。使用一個(gè)拓?fù)涞姆椒ǎ覀兏纳屏诉吘壒饩�原理的公式，來確保對(duì)所有的情況都是正確的。我們提出兩種一般原理的不同版本。第一種涉及到不同區(qū)域的邊界與不同數(shù)目的反射器相一致。第二個(gè)版本用僅有的單一反射器來說明，但是它涉及到了一個(gè)增加的輔助相位空間。我們討論邊緣光線原理作為一個(gè)非成像器件的設(shè)計(jì)程序的使用。CPC用來說明論據(jù)的每個(gè)部分。
