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    [分享]光刻機(jī)鏡頭設(shè)計(jì) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2013-03-29
    本文針對(duì)極大規(guī)模集成電路制造的工業(yè)化生產(chǎn)需求,開展面向 100nm 曝光節(jié)點(diǎn)的高數(shù)值孔徑(NA)、深紫外(DUV)投影光刻物鏡光學(xué)設(shè)計(jì)與仿真。即綜合元件加工、檢測(cè)、鍍膜、光學(xué)材料、機(jī)械結(jié)構(gòu)、照明系統(tǒng)以及分辨率增強(qiáng)等各項(xiàng)技術(shù)要求和約束,完成 NA0.75,工作波長(zhǎng) 193nm(ArF)投影光刻物鏡的光學(xué)設(shè)計(jì)。同時(shí)為最大限度地降低投影光刻物鏡的制造成本并確保的各項(xiàng)性能指標(biāo),研究投影光刻物鏡可能采取的像質(zhì)補(bǔ)償措施和方法。 : IsJE6r  
    CAJ文件 `09[25?  
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