隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，我國(guó)迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機(jī)。曝光波長(zhǎng)為 193nm 的投影式光刻機(jī)因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至 32nm 節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢(shì)已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備。照明系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)為研究方向，對(duì)照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進(jìn)行了光學(xué)設(shè)計(jì)與仿真研究。 1F=x~FMvY  
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長(zhǎng)光機(jī)博士論文 n4:WM+f4  

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長(zhǎng)光機(jī)博士論文

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剛好在做均勻照明，學(xué)習(xí)學(xué)習(xí) LL4yafh