隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，我國迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設備-光刻機。曝光波長為 193nm 的投影式光刻機因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至 32nm 節(jié)點的優(yōu)勢已成為目前光刻領域的主流設備。照明系統(tǒng)是光刻機的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學設計為研究方向，對照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進行了光學設計與仿真研究。 S>pbplE  
r/vRaOg>X  
CAJ文件 UjU*`}k3  
長光機博士論文