本公司美國(guó)光刻圖形發(fā)生器利用光刻正膠或負(fù)膠,在感光板上制作用于加工集成電路的高精度、高品質(zhì)掩膜版,也可根據(jù)需求制作優(yōu)質(zhì)的光學(xué)碼盤、碼尺、分劃板、標(biāo)尺、光柵、鍍盤、鑒別率板等精密光學(xué)零件的母板和任意圖形。
NY.Cr.} 光刻機(jī)性能參數(shù):
y0xBNhev 可加工最小線寬: 直接光刻 2.5 微米;重復(fù)步進(jìn) 1 微米
Bp^LLH 最大加工范圍: 152毫米 × 220毫米
:!aLa}`@ 定位精度: 0.38微米
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