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歐美設(shè)備及材料推薦：濺射/蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、金剛石薄膜合成設(shè)備、金剛石窗口、光學(xué)軟件 1. 光學(xué)設(shè)計(jì)軟件（照明設(shè)計(jì)、鏡頭設(shè)計(jì)、雜光及鬼像分析等）、物理光學(xué)設(shè)計(jì)軟件及服務(wù)（DOE、HOE等）；激光模擬仿真軟件（固體、半導(dǎo)體、光纖激光器設(shè)計(jì)）；激光與物質(zhì)相互作用模擬。 2. 散射測(cè)量?jī)x（BSDF/BRDF）、非球面干涉儀； 各種蒸發(fā)、濺射鍍膜設(shè)備（Evaporator / Sputter） ——熱絲，電子束，電感；Reactive, 直流, Confocal, 射頻,non-reactive ——金屬膜（Al, Au, Ge, Ni, NiCr, Pd, Pt, Ti, Ta, W, Mo, Nb, NbN, NbTiN） ——光學(xué)膜、單/多層膜、磁性膜、氧化膜、非金屬膜等 ——襯底旋轉(zhuǎn)，襯底傾斜——角度精度0.0005度、重復(fù)性0.01度 -----高真空（10^-7 至10^-8 Torr）、超高真空（10^-11Torr） PECVD——過(guò)渡金屬膜、氮化硅(Si3N4),、氧化硅 (SiO2)、氧氮化硅、類金剛石； Ion milling——PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等材料處理 plasma treatment設(shè)備------刻蝕、灰化、功能化處理（親水、疏水）、超潔凈 3. 金剛石窗口及其合成設(shè)備MPCVD / HFCVD: ——合成金剛石多晶（窗口）材料（紫外窗口、紅外窗口、激光窗口、微波窗口） |
