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    [討論]冷卻水對(duì)晶控的影響 [復(fù)制鏈接]

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    離線(xiàn)liyungang
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2014-02-10
    各位,冷卻水對(duì)晶控有多大影響,討論下。
     
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    離線(xiàn)morningtech
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2014-02-13
    對(duì)于AT切割晶振片,冷卻水溫度一般在20幾度。 eV:9y  
    正常流量情況下, J]l rS  
    冷卻水溫度過(guò)低, 則晶振片上膜層應(yīng)力大,不利于鍍厚膜。 9vUO *D  
    冷卻水溫度過(guò)高,雖可鍍膜厚增加,但晶振片溫度高,導(dǎo)致進(jìn)入較大的溫度頻率效應(yīng)區(qū)域,厚度精度將下降。 M5nWVK7c  
    I-y#Ks1p+  
    上海膜林科技有限公司的XDM-3K晶控儀能實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)晶振片的損耗,膜層應(yīng)力對(duì)此值影響較大。 O/AaYA&  
    另一方面,XDM-3K有額外付費(fèi)的厚度補(bǔ)償功能,正是為了補(bǔ)償溫度效應(yīng)帶來(lái)的厚度計(jì)算偏差。 DI+]D~N  
    離線(xiàn)sgh920
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2014-02-18
    回 morningtech 的帖子
    morningtech:對(duì)于AT切割晶振片,冷卻水溫度一般在20幾度。 yAoe51h?  
    正常流量情況下, | WvU