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[分享]光學(xué)元件拋光亞表面損傷實驗研究 [復(fù)制鏈接]

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離線春頭

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關(guān)鍵詞：光學(xué)元件拋光表面損傷

摘要：設(shè)計光學(xué)元件拋光亞表面損傷檢測實驗，使用原子力顯微鏡(AFM)檢測傳統(tǒng)拋光亞表面塑性劃痕與磁流變拋光亞表面塑性劃痕的最大深度，通過比較驗證磁流變拋光對亞表面塑性劃痕的抑制能力;同時利用二次離子質(zhì)譜儀的深度剖析功能檢測磁流變拋光石英樣件后表面水解層的深度，指出磁流變拋光屬于低損傷性拋光技術(shù)。

關(guān)鍵詞：磁流變拋光；傳統(tǒng)拋光；亞表面損傷

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光學(xué)元件拋光亞表面損傷實驗研究.rar (461 K) 下載次數(shù):31 ，售價:2光幣[記錄]

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離線kerberos110

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離線wflney

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