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[分享]整理英特爾14nm光刻技術(shù)簡報，光刻物鏡專利。 [復制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2014-08-15

附件是一些英特爾近年來讓摩爾定律得以延續(xù)關(guān)鍵技術(shù)：三柵極3d晶體管技術(shù)和14nm光刻。同時獻上三篇蔡司光刻鏡頭專利，該專利和英特爾14nm技術(shù)的關(guān)聯(lián)性極小，從搜集情報來看英特爾所采購的光刻系統(tǒng)很有可能應用尼康的光刻物鏡。國內(nèi)光刻設(shè)備和光刻工藝和國際水準有巨大落差。工藝方面臺積電（TW）年內(nèi)有可能實現(xiàn)18nm-16nm工藝！中芯國際有可能實現(xiàn)28nm工藝，由高通提供相關(guān)幫助。