光行天下>光學(xué)薄膜設(shè)計(jì),工藝與設(shè)備>請教如何控制直流磁控濺鍍膜厚的均勻度

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[求助]請教如何控制直流磁控濺鍍膜厚的均勻度 [復(fù)制鏈接]

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離線kevin980828

實(shí)習(xí)生

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2005-09-08

剛接觸濺鍍機(jī),發(fā)現(xiàn)真空腔內(nèi)外圍比內(nèi)圍鍍的產(chǎn)品膜厚要薄很多,色差太大,請各位大俠幫忙一下,如何改善.謝謝!!!

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離線flyinlove79

論壇版主

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2005-09-09

首先檢查靶材表面磁場是否均勻，如果相差太大，濺射率相差會(huì)很大，就需要調(diào)整磁場分布。另外可在靶材前面放置一個(gè)修正板限制某些濺射率較大的位置。

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離線leilinna

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 2樓發(fā)表于: 2008-11-20

請問樓上前輩：這塊修正板應(yīng)該是什么材料？如何放置呢？

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