前邊已經介紹過一些diffuser，splitter和shaper的設計方法，在元件設計好并加工的時候會出現加工公差，因此如何模擬實際的二元光學元件（DOE），在本例中給出了模擬方法。 Eq >3|(UT
VirtualLab中有一種界面叫做組合界面（combined interface），可以將兩種（或多種）界面的輪廓數值疊加，即平面上每個坐標（x,y）對應的高度值H1(x,y)描述面1，H2(x,y)描述面2，則H1(x,y)+H2(x,y)即為新組合界面的輪廓H(x,y)。 2mVcT3
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因此H1(x,y)作為初始界面（如本例中的設計好的非球面），H2(x,y)作為加工公差。其中加工公差的數據導入需要注意導入過程中的采樣間距及單位（在導入界面中需選擇length）。 { 3=\x
通過衍射評價函數這個探測器可以探測導入公差前后的一致性誤差，信噪比，窗口效率及轉換效率，加工公差導入之后，后兩個參數變化不大，但是一致性誤差變化非常大，信噪比也幾乎減小一倍。 N>z<v\`
