本例以正弦光柵為例介紹光柵面并非理想情況時的模擬。因為實際加工原因，光柵面并不一定是我們期望的理想光柵面。對于正弦光柵，變很可能不是理想正弦型，而是在正弦基礎上出現(xiàn)隨機的起伏，這會對衍射情形帶來什么影響？我們把這個隨機的粗糙面疊加在光柵面上來模擬，引入這個糙面時可以通過特征尺寸和調制深度來表達。特征尺寸與橫向的光柵周期相對應，表達起伏快慢，特征尺寸越小，起伏越劇烈，越大，則越平緩。而調制深度則與縱向的光柵調制深度對應，表達起伏的幅度。并使用parameter run來考察衍射效率隨特征尺寸和調制深度的變化情況。在特征尺寸變化時，會導致衍射級次的變化，在某個特征尺寸時，零級能量會降到最低，但仍然是一個較大的數值。然而衍射情形隨調制深度的變化則很靈敏，在調制深度為0時，與理想的正弦光柵衍射情況接近，能量主要分布在零級和±1級上，高階衍射級次能量很小。隨著調制深度的增加，零級能量會被衍射至高級次，從而零級能量降低，±1級則能量增加，更高級次能量也相應增加。
