1、研磨后的清洗 o{3>n" \w3 ?hYWxWW 研磨是
光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和
精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)
鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止
拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗
設(shè)備大致分為兩種：
'xGTaKlm, V=<AI.Z:w 本部分內(nèi)容設(shè)定了隱藏，需要回復(fù)后才能看到
xqfIm%9i} 綜 述 C8D `:k
!C ZFbz~: 目前多數(shù)光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠家都會進行研磨后和鍍膜前兩次清洗，其中研磨后主要清洗瀝青（漆片）和研磨粉，鍍膜前主要清洗求芯油（磨邊油）、指印和灰塵。所采用的清洗工藝也可分為溶劑清洗和半水基清洗兩種，兩者最大的區(qū)別在于前者對無機污染物的清洗完全依賴水基清洗劑，后者所使用的半水基清洗劑對于無機污染物的清洗效果也較好；兩者的共同點是對于有機污染物都具有良好的清洗效果，并采用相同的脫水及干燥方式，同時對鏡片的安全性極高。
