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    光子晶體光纖光柵的制備方法及應(yīng)用 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2006-09-16
    — 本帖被 cyqdesign 從 光電技術(shù) 移動到本區(qū)(2007-06-26) —

    摘要: 介紹了國內(nèi)外幾種典型的光子晶體光纖光柵的制備方法,并分析了光子晶體光纖布喇格光柵、長周期光柵的模式耦合特性及其光通信及光傳感領(lǐng)域中的應(yīng)用前景。

    光子晶體光纖(Photonic Crystal Fiber,PCF)是近年來興起的、十分引人入勝的一種具有微結(jié)構(gòu)的新型硅玻璃光纖。自1996年英國Bath大學(xué)的Knight等人首次制造了具有光子晶體包層的光纖后,PCF由于具有一系列“奇異”的光學(xué)特性而倍受重視。PCF,又稱微結(jié)構(gòu)光纖(Microstructured Optical Fiber, MOF)或多孔光纖(Holey Fiber, HF),其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是光纖橫截面具有周期性微孔結(jié)構(gòu),如圖1所示。由于PCF包層微孔的大小與波長數(shù)量級相同,故可通過優(yōu)化設(shè)計微孔大小、填充率以及排列等方式獲得一系列“奇異”的光學(xué)性質(zhì)。與常規(guī)光纖相比,PCF具有如下獨(dú)特的光學(xué)特性:無窮盡單模傳輸、高非線性、大模場面積、可控色散特性等。基于此,PCF不僅有可能成為比常規(guī)光纖更優(yōu)異的光傳輸介質(zhì),而且還可以用來制作各種前所未有的、功能新奇的光子器件。因此,具有周期結(jié)構(gòu)的PCF已迅速成為光電子領(lǐng)域的前沿?zé)狳c(diǎn)。

    圖1 PCF的電子掃描顯微鏡圖。(a)~(d)為不同空氣孔填充率及排列分布的空氣硅包層微結(jié)構(gòu)光纖;(e)光子禁帶光纖。

        圖1 PCF的電子掃描顯微鏡圖。(a)~(d)為不同空氣孔填充率及排列分布的空氣硅包層微結(jié)構(gòu)光纖;(e)光子禁帶光纖。

    近年來,隨著PCF的理論研究逐步深入及其制造技術(shù)和工藝的不斷完善,基于PCF的器件及其應(yīng)用正方興未艾,其中包括基于模式耦合的PCF器件,如濾波器等。因此,在PCF上寫入光柵就成為研制基于PCF模式耦合器的基礎(chǔ)。 EE 9w^.3a  
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      光纖光柵是光纖導(dǎo)波介質(zhì)中物理結(jié)構(gòu)的周期性分布,是一種新型的光無源器件,其作用在于改變或控制光波在該區(qū)域的傳播行為與方式。光纖光柵的出現(xiàn),深刻地影響著光纖信息傳輸?shù)脑O(shè)計及光子器件的研制,它使許多復(fù)雜的全光纖通信和傳感網(wǎng)絡(luò)成為可能,極大地拓寬了光纖技術(shù)的應(yīng)用范圍。目前,高速率、大容量的DWDM通信技術(shù)及高精度、多參數(shù)、分布式傳感技術(shù)的發(fā)展對FG的性能和靈活性提出了更高的要求,如光柵諧振波長可以調(diào)諧、包層模耦合可以控制以及對應(yīng)變和溫度等物理量更加敏感等,從而促使發(fā)展新的、特殊光纖光柵。 q,Gymh;  
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      PCF和傳統(tǒng)的光纖光柵寫入技術(shù)結(jié)合為制造新型的光纖光柵提供了良機(jī)。自1999年B.J.Eggleton等人首次報道在PCF上寫入光纖布喇格光柵(Photonic Fiber Bragg Grating, PFBG)和長周期光纖光柵(Photonic Long Period Grating, PLPG)以來,光子晶體光纖光柵(Photonic Crystal Fiber Grating, PCFG)的制備方法及理論分析正成為人們研究的熱點(diǎn)。與傳統(tǒng)的光纖光柵相比,PCFG具有如下特性:二維或多維光子晶體、設(shè)計自由度大(如單芯或多芯、空氣孔可填充介質(zhì)等)、波長調(diào)諧范圍寬(可達(dá)100nm以上)、可進(jìn)行多參量、多功能感測等。PCF及PCFG的出現(xiàn),將促進(jìn)并產(chǎn)生全新的性能優(yōu)異的新一代光纖光子器件,由此可能導(dǎo)致現(xiàn)代光纖技術(shù)的新跨越。 jG>W+lq  
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      1 光子晶體光纖光柵的制備方法  GDSV:]hL  
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      傳統(tǒng)光纖光柵的寫制方法如相位模板法、振幅模板法、CO2激光加熱法等較成熟,已實現(xiàn)批量生產(chǎn)。對于PCF,其包層為空氣孔結(jié)構(gòu),如何在其上寫制光柵并制造出基于PCFG的器件,成為近年來的研究熱點(diǎn)。 Snk+ZQ-  
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      1.1 紫外曝光法寫制PCFG !E$$ FvL  
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      1999年,Eggleton等人利用紫外曝光相位模板法首次在纖芯摻鍺的PCF上寫入FBG和LPG[9]。PFBG的透射譜如圖2所示,PLPG的透射譜如圖3所示。利用該方法寫制PCFG的還有南開大學(xué)光電子研究組。

    圖2

    紫外曝光技術(shù)寫制PCFG的優(yōu)點(diǎn)是沿襲了傳統(tǒng)光纖光柵寫制技術(shù),繼承性好,技術(shù)比較成熟,且具備批量生產(chǎn)條件。但這種方法要求在纖芯摻雜稀土元素以增強(qiáng)其光敏性,這會造成PCF的生產(chǎn)過程復(fù)雜,增加額外成本;而且在纖芯上摻雜其它元素,一定程度上會破壞光在纖芯的傳導(dǎo)特性。 t:2DB)  
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      1.2 熱激成柵法寫制PCFG oU|G74e6  
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      為了彌補(bǔ)紫外曝光技術(shù)需摻雜的不足,近年來已開始探討在純硅纖芯的PCF上寫入光柵。2002年,G. Kakarantzas等人利用CO2激光在純硅纖芯的PCF上熱激蝕刻實現(xiàn)了LPG的寫制[10]。其原理為:利用較高能量的CO2激光長時間聚焦到PCF上,使得該處的空氣孔坍塌,利用計算機(jī)自動控制激光束的開關(guān)及掃描等過程,可在光纖軸向上形成周期性結(jié)構(gòu)微擾(即PLPG)。2003年,新加坡的Yinian Zhu等人也利用類似的方法寫制PLPG[11]。  exq5Z

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