摘要：采用
離子束濺射制備了AlF3、GdF3單層膜及193 nm減反和高反膜系，分別使用分光光度計(jì)、原子力
顯微鏡和
應(yīng)力儀研究了
薄膜的
光學(xué)特性、微觀
結(jié)構(gòu)以及殘余應(yīng)力。在優(yōu)選的沉積
參數(shù)下制備出消光系數(shù)分別為1.1×10-4和3.0×10-4的低損耗AlF3和GdF3薄膜，對(duì)應(yīng)的
折射率分別為1.43和1.67，193 nm減反膜系的透過(guò)率為99.6%，剩余反射幾乎為零，而高反膜系的反射率為99.2%，透過(guò)率為0.1%。應(yīng)力測(cè)量結(jié)果表明，AlF3薄膜表現(xiàn)為張應(yīng)力而GdF3薄膜具有壓應(yīng)力，與沉積條件相關(guān)的低生長(zhǎng)應(yīng)力是AlF3和GdF3薄膜殘余應(yīng)力較小的主要原因，采用這兩種
材料制備的減反及高反膜系應(yīng)力均低于50 MPa。針對(duì)平面和曲率半徑為240 mm的凸面元件，通過(guò)設(shè)計(jì)修正擋板，250 mm口徑膜厚均勻性均優(yōu)于97%。為亞
納米精度的平面元件鍍制193 nm減反膜系，
鍍膜后RMS由0.177 nm變?yōu)?.219 nm。
6 *GR_sMm ~A-vIlGt!
