各位好，最近在生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)鍍膜機(jī)固定的2套柵網(wǎng)周期性更換后，內(nèi)外圈氧化硅與氧化鈦材料匹配系數(shù)失衡，導(dǎo)致曲線頻譜落差變大，請(qǐng)各大神指導(dǎo)一下從哪些方向上分析改善。 7(8;to6(  
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同樣遇到這種問題，不同柵網(wǎng)更換后會(huì)導(dǎo)致曲線均勻性的變化，哪怕是同一個(gè)柵網(wǎng)在每次保養(yǎng)完成以后也盡可能的連續(xù)性鍍同一膜系類型的產(chǎn)品，這樣是最能保證產(chǎn)品重復(fù)性的（針對(duì)5nm余量的高要求產(chǎn)品），如果中間穿插其他產(chǎn)品或者待機(jī)一天再鍍時(shí)，鍍前最好式樣一罩，根據(jù)實(shí)際鍍后的變化兩量去調(diào)整膜系參數(shù)，除此以外也確實(shí)很難找到更好的辦法

學(xué)習(xí)學(xué)習(xí)

柵網(wǎng)和鍍膜傘應(yīng)該可以固定同一個(gè)使用吧？ MAPGJ"?  
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也不知道樓主解決這個(gè)問題沒有，看了好多的提問，經(jīng)常是有人幫忙出了建議，不管有么有用，問題有沒有解決，告訴一下大家也是好的呀，也能幫助一下別人遇到了此問題的人

MASK只是修正鐘罩的，而鐘罩是不變得。所以我們要從以下幾個(gè)方面去考慮： k=T\\]KxC  
1、鐘罩是否變形，你可以從鐘罩的幾個(gè)不同的位置去取測(cè)試片對(duì)比以下特性的差異，有可能是因?yàn)殓娬肿冃危�每次取的測(cè)試片位置不一致導(dǎo)致特性不停的變動(dòng)； 7?w*]  
2、查看離子源的蒸發(fā)角度是否發(fā)生變化，主要是離子源的傾斜角度，出廠都有參數(shù)的。角度變化導(dǎo)致離子分布變化，從而影響特性； tW}'g:s  
3、電子槍系統(tǒng)是否發(fā)生變化，光斑相對(duì)于鐘罩的位置等等。 mGg+.PFsM  
4、修正板是否變形，修正板機(jī)構(gòu)定位是否有變動(dòng)，主要就是修正升上去后，相對(duì)于球罩的位置是否發(fā)生變化。 F0Yd@Lk$_  
如果以上均沒有問題，再去考慮修正MASK。一般不要輕易的去動(dòng)MASK。因?yàn)樗�是死的�?span style="display:none"> 5D//*}b,  
希望能夠幫助到你。

首先 檢測(cè)的是 離子源柵網(wǎng)更換是的重復(fù)性工作，其次才是MASK

如果只是鍍前轟擊的話，會(huì)不會(huì)影響鍍膜的均勻性。遇到過在鍍后轟擊會(huì)引起膜層不均勻的現(xiàn)象。

一樓正解，大家一定要注意的是，離子源的狀態(tài)會(huì)影響膜層的位置均勻性，更換離子源部件或者調(diào)整離子源參數(shù)都可能會(huì)發(fā)生樓主那樣的情況

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