大偏離度非球面檢測(cè)畸變校正方法 3$>1FoSk
K=h9Ce
在高數(shù)值孔徑（NA）投影光刻物鏡中，隨著數(shù)值孔徑的增加，非球面的偏離度越來(lái)越大。對(duì)這種大偏離度非球面進(jìn)行亞納米量級(jí)的檢測(cè)，一直是光學(xué)檢測(cè)的一大難題。本文首先對(duì)一偏離度超過(guò)500 μm的偶次高次非球面進(jìn)行了計(jì)算全息圖（Computer-Generated Hologram，CGH）設(shè)計(jì)，設(shè)計(jì)出了滿(mǎn)足高精度面形檢測(cè)和刻蝕加工要求的CGH。然后，針對(duì)此設(shè)計(jì)方案，定量分析了CGH的成像畸變及畸變對(duì)像差分析的影響。分析結(jié)果表明，不同徑向位置的成像倍率偏差（畸變）最大達(dá)到了2.7∶1，并且由于畸變的存在，低階像差衍生出了明顯的高階像差。最后，針對(duì)用CGH檢測(cè)大偏離度非球面時(shí)出現(xiàn)的成像畸變，提出了采用光線(xiàn)追跡與最小二乘法相結(jié)合的成像畸變的校正方法，并通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了此方法的準(zhǔn)確性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，畸變校正之后相對(duì)剩余殘差小于0.2%，可以滿(mǎn)足高精度非球面檢測(cè)加工的要求。
