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條紋投影測(cè)量讓逆向工程快速精確 高精度光學(xué)三維掃描是目前光學(xué)測(cè)量領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一。其中，條紋投影掃描測(cè)量技術(shù)憑借非接觸式測(cè)量、測(cè)量速度快以及測(cè)量精度高等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于逆向工程、文物保護(hù)等復(fù)雜曲面幾何參數(shù)的精密測(cè)量領(lǐng)域。然而，由于條紋投影掃描測(cè)量技術(shù)需要通過高階模型進(jìn)行標(biāo)定，在測(cè)量中獲取的各項(xiàng)數(shù)據(jù)在高階模型中標(biāo)定較為困難，從而影響了其測(cè)量結(jié)果穩(wěn)定性。 針對(duì)這一問題，該校儀器科學(xué)與光電工程學(xué)院于連棟教授科研團(tuán)隊(duì)，在標(biāo)定模型優(yōu)化、自適應(yīng)有效點(diǎn)云識(shí)別以及相位誤差精確補(bǔ)償?shù)汝P(guān)鍵問題提出了創(chuàng)新性的解決辦法，從而獲取高精度的三維輪廓點(diǎn)云。同時(shí)，該團(tuán)隊(duì)首次提出一種確定高階標(biāo)定模型中各組成項(xiàng)對(duì)重構(gòu)結(jié)果重要性的分析方法，可在測(cè)量過程中識(shí)別并剔除對(duì)重構(gòu)結(jié)果影響微小的組成項(xiàng)，通過優(yōu)化高階標(biāo)定模型，在保證精度的前提下，提升了高階標(biāo)定模型的計(jì)算效率和穩(wěn)定性。 |
