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鍍完膜后發(fā)霧
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liuwenbo1991
2018-10-17 10:21
鍍完膜后發(fā)霧
基材：SI片 膜料：GE+ZNS 鍍膜波段近紫外到14um，電子槍蒸發(fā)鍍膜，Mark II+離子源。鍍完膜后SI片發(fā)霧，通過調(diào)節(jié)鍍膜工藝（包括鍍膜溫度，材料沉積速率，離子源參數(shù)等等后依然發(fā)霧，哪位大咖有遇到過這種問題，幫忙解惑，謝謝
rexchou
2018-10-19 17:15
之前遇過發(fā)霧情況,是離子源被汙染到.
`]4tJJy$
請參考~
ouyuu
2018-10-20 20:13
我覺得可能是MARKii離子源能量不夠造成的。
>D_!d@Z
MARK II離子源的特性是電流很大，電壓不高。
!|~y f3
離子束的密度（電流）夠了，但是離子速度（電壓）不夠的話，
k-I U}|Xz
結(jié)晶大小還是沒法改變。
=3|5=ZU034
#Q/xQ`+|.
樓主的設(shè)備加熱能到350度以上嗎？
yangpaopao
2018-10-23 12:17
SI片不知道，熔石英鏡片出過同樣的問題，硅片加工完到你鍍膜前肯定被污染過，或者酒精等擦過
dede
2019-10-14 16:03
頂一下
jakzhou
2019-11-17 18:37
鍍膜溫度過高，氧化鈦高溫下結(jié)晶發(fā)霧！
王少偉
2020-03-05 21:20
真空度不夠
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鍍完膜后發(fā)霧
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