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infotek

2021-05-11 09:44

Runsheet和Monitorlink Enhancements

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•對反射和透射監(jiān)控計算光學信號 UA9LI<Y
•當膜層沉積時，動態(tài)加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同 {+[gf:Ev
•信號數(shù)據(jù)可以適應自定義范圍 IW1\vfe
•對每個膜層，監(jiān)控波長和帶寬都可以改變 .Ep3~9TBW
•對每個膜層可以用不同的校驗芯片 !K 9(OX2;
•Monitorlink 可以將沉積設計反映到光學和晶體監(jiān)控上 O.E0LCABC
•監(jiān)控數(shù)據(jù)的圖表可以為手動監(jiān)控打印出來 6~8 RFf"
Runsheet和Monitorlink特點 AFFLnLA<L
RUNSHEET操作