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infotek 2021-05-19 10:06

高NA物鏡聚焦的分析

摘要 _ I"}3*  
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高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻,顯微鏡等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 H*51GxK  
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