| infotek | 2021-08-04 11:17 |
VIRTUALLAB FUSION新版本 2021.1發(fā)布！新版本2021.1為我們的用戶提供了更多應(yīng)用的解決方案。此外，我們還提供了一個(gè)新的工作流程，可以實(shí)現(xiàn)從光線到完全物理光學(xué)建模的無縫過渡。通過這種方式，我們簡(jiǎn)化了對(duì)VirtualLab Fusion中驚人的建模功能的使用 VIRTUALLAB FUSION新版本 2021.1 • 一種新的微透鏡陣列(MLA)元件能夠?qū)Σ粩嘣黾拥腗LA應(yīng)用進(jìn)行精確和快速的建模。 • 任何類型的晶體都可以通過Crystal Plate元件在系統(tǒng)中進(jìn)行建模。 • 各向異性層可以添加到所有表面，以利用光學(xué)系統(tǒng)中偏振控制和多路傳輸?shù)念~外空間。 • 我們提供了一個(gè)光纖模式計(jì)算器來分析和研究階躍折射率和拋物線折射率光纖的LP-Bessel和LP-Laguerre模式。 • 在新型多模光纖耦合效率探測(cè)器中還采用了LP模式，用LP模式計(jì)算了入射光束的重疊積分。 • 新的LP模式光源可以讓LP模通過任意的光學(xué)系統(tǒng)傳播。 • 通過使用新的復(fù)合光源組件，我們邁出了第一步，通過允許使用不同的和移動(dòng)的光源來顯著擴(kuò)展VirtualLab Fusion中的光源建模。 • 在版本2021.1中，我們提供了一個(gè)新的工作流程，可以實(shí)現(xiàn)從光線到完全物理光學(xué)建模的無縫過渡。通過這種方式，我們簡(jiǎn)化了對(duì)VirtualLab Fusion中驚人的建模功能的使用。 聚焦區(qū)域的像差對(duì)LP光纖模式影響的研究  | |