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關(guān)于磁控濺射
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mainbomb
2007-03-11 11:31
關(guān)于磁控濺射
磁控濺射的靶在用一段時(shí)間之后,在靶邊緣的特定區(qū)域總是會(huì)發(fā)藍(lán),尤其是NiCr合金靶、Pb靶和TiW的靶,請(qǐng)問(wèn)是怎么回事?還有濺射鍍膜的均勻性不好,有什么可以改善的方法嗎?
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關(guān)于磁控濺射
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