| gangzi0801 |
2021-10-13 16:58 |
數(shù)字微鏡器件超分辨成像光學(xué)系統(tǒng)裝調(diào)誤差影響研究
目前對于超分辨成像技術(shù)的研究主要集中在超分辨重建算法方面，光學(xué)系統(tǒng)本身的裝調(diào)誤差對超分辨成像結(jié)果的影響尚未見報道。針對這一問題，開展了裝調(diào)誤差對超分辨成像影響的研究，建立了基于數(shù)字微鏡器件(DMD)的超分辨成像光學(xué)系統(tǒng)的基本成像模型，設(shè)計(jì)了一個工作波段為8~12 μm的DMD超分辨成像光學(xué)系統(tǒng)，提出了裝調(diào)誤差對超分辨成像質(zhì)量影響的分析方法。在成像模型中分別引入適當(dāng)?shù)钠摹A斜、鏡片間隔誤差、離焦等裝調(diào)誤差，對超分辨重建結(jié)果進(jìn)行仿真分析，得出了該超分辨成像光學(xué)系統(tǒng)裝調(diào)時的公差范圍：該系統(tǒng)在加工裝調(diào)時X方向總體偏心誤差控制在±0.07 mm以內(nèi)，Y方向總體偏心誤差控制在±0.05 mm以內(nèi)，X方向和Y方向的總體傾斜誤差控制在±0.06°以內(nèi)，總體鏡片間隔誤差控制在±0.02 mm以內(nèi)，成像物鏡的離焦量控制在±0.04 mm以內(nèi)，投影物鏡的離焦量控制在±0.05 mm以內(nèi)，在此范圍內(nèi)超分辨成像光學(xué)系統(tǒng)可以保證超分辨成像的質(zhì)量。
|
|
