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fanrongwei11

2021-11-25 16:40

PC硬化基材上鍍ITO膜，100度高溫環(huán)測ITO膜裂

PC基底硬化后進行加霍爾離子源輔助熱鍍（100°C-200°C）ITO膜，氧分壓在2.2-2Pa，鍍完也都有冷卻1小時以上，但鍍完100℃烘烤一小時后ITO膜均出現(xiàn)了開裂，也試過了不加溫和不加離子源輔助，但鍍產(chǎn)品的光電性能太差了，方阻太大透過太小，100℃烘烤后倒是不膜裂了，請教下各位大神，如何進行工藝改善？

ouyuu	2021-12-24 23:59
溫度太高了吧。霍爾源本來就有加熱作用，可以適當減少一點鍍膜的溫度。 VzM (u_) 這個條件要慢慢抓，因為離子源電子槍對基板都有加熱作用。 tuo'Uk) 而且PC用鹵素燈照射比較好（鍍膜面加熱效果比較好）

fanrongwei11	2022-01-03 19:25
多謝大神的專業(yè)指導，不過我們的鍍膜機是上加熱，加熱絲加熱的，接下來我會試著向這個參數(shù)方向調(diào)試的，希望能調(diào)試出合格的工藝。

非成像光學設	2022-06-23 17:53
學習學習

小時候_我很帥	2022-08-31 13:57
試試降低離子源能量

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