无码日韩精品一区二区免费_极品尤物一区二区三区_国产在线乱码一区二三区_内射女校花一区二区三区

首頁 -> 登錄 -> 注冊 -> 回復(fù)主題 -> 發(fā)表主題

光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計,工藝與設(shè)備 -> 鍍膜最外圈均勻性如何保證 [點此返回論壇查看本帖完整版本]

[打印本頁]

天一光學(xué)鍍膜機	2022-04-27 10:47
鍍膜最外圈均勻性如何保證材料H4和MGF2最外 L_zB/(h 圈5層均勻性相差較大 n5#9o},oK 14層均勻性相差不大。 {4R;C~E8 可能的原因？

ouyuu	2022-05-06 10:38
腔體漏氣，設(shè)備太臟，真空度不行

gaofei555	2022-06-20 14:40
鍍膜工藝條件一致的前提下，修正板沒到位吧 SzjylUYV

奔跑的小駿馬	2022-06-21 18:21
是同樣的光斑參數(shù)不？是同樣的球罩不？是球罩上同一區(qū)域不？是同樣的修正板不？

嚶?lián)糸L空	2022-08-21 16:33
電子槍可能太靠邊緣了

18844167969	2022-08-29 13:36
離子源能量分布不均勻

查看本帖完整版本: [-- 鍍膜最外圈均勻性如何保證 --] [-- top --]