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cyqdesign

2022-11-19 18:20

華為EUV光刻新專利：解決相干光無(wú)法勻光問(wèn)題

據(jù)報(bào)道，華為周二公布了一項(xiàng)新專利，展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》，而這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題，在極紫外光的光刻裝置基礎(chǔ)上進(jìn)行了優(yōu)化，進(jìn)而達(dá)到勻光的目的。