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2024-04-24 08:43

JCMsuite應(yīng)用：平面波入射非周期結(jié)構(gòu)中的近場分布

本教程示例遵循P. Lalanne等人[1]研究的基準(zhǔn)問題設(shè)置[2]。同時(shí)演示了相同設(shè)置下的FEM性能。基準(zhǔn)問題包括計(jì)算由平面波入射的孤立(即非周期)模式中的近場。該幾何結(jié)構(gòu)由基板上銀膜中的孤立亞波長狹縫和銀膜中相鄰的平行凹槽組成。平面波垂直入射該裝置，并具有平面內(nèi)電場極化(分別為面外磁場極化)。通過狹縫傳輸?shù)轿挥讵M縫下方特定距離的探測(cè)器區(qū)域的光的能量通量被檢測(cè)，并歸一化為通過狹縫的能量通量，在不存在凹槽的第二次模擬中計(jì)算。由于幾何、光源和材料的特性，等離子體效應(yīng)導(dǎo)致了歸一化透射對(duì)物理參數(shù)的非常關(guān)鍵的依賴。這使得標(biāo)準(zhǔn)化傳輸?shù)臏?zhǔn)確計(jì)算成為具有挑戰(zhàn)性的基準(zhǔn)問題。