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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計,工藝與設(shè)備 -> 離子源前處理時間問題 [點此返回論壇查看本帖完整版本]

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wpawj	2024-05-16 23:01
離子源前處理時間問題請教一下，鍍膜前的離子源前處理時間多長合適，有什么依據(jù)或者判定標(biāo)準(zhǔn)嗎？

ouyuu

2024-05-17 08:57

和離子源能量強度有關(guān)，哪怕同一個離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了）
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。
所以也和你清洗效果，清洗方式，鍍膜溫度，鍍膜材料有關(guān)。

zhangsui666	2024-05-17 17:48
一般來說轟擊15分鐘左右就夠，但是還是在進爐前清洗工作一定要仔細(xì)，離子源主要為了輔助沉積。

renlgj	2024-07-21 17:12
學(xué)習(xí)一下，新手中

renlgj	2024-07-27 15:36
學(xué)習(xí)了，謝謝各位大神

gaofei555

2024-07-30 08:38

ouyuu:和離子源能量強度有關(guān)，哪怕同一個離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 7q?, ?
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） PNgY>=Y
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 chM%]|gey
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57) 5YE'L.

學(xué)習(xí)了

cwl563590

2024-12-08 20:27

ouyuu:和離子源能量強度有關(guān)，哪怕同一個離子源，新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 BO~0ON0
1，用氧離子氧化表面的臟污（臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧，氧化后都變成氣體揮發(fā)了） BKCA<
2，用重離子把表面打出凹凸不平的效果，增加表面的結(jié)合力。 36}?dRw#p
所以也和你清洗效果，清洗 .. (2024-05-17 08:57) k:t]s_`<